23 Февраля 2012 г.
О компании Новости Продукция Услуги Технологии Публикации Контакты
Версия для печати
Главная страница :: О компании :: Патенты

Патенты

СВЧ гибридная интегральная схема и способ её изготовления
СВЧ гибридная интегральная схема и способ её изготовления
Патент N2287875, 20.10.2006
Способ нанесения металлического покрытия на диэлектрическую подложку и устройство для его осуществления
Способ нанесения металлического покрытия на диэлектрическую подложку и устройство для его осуществления
Патент N 2285742, 20.10.2006
Высокочастотный газоразрядный источник ионов высокой плотности с низкоимпедансной антенной
Высокочастотный газоразрядный источник ионов высокой плотности с низкоимпедансной антенной
Патент N 2171555, 27.07.2001
Установка для нанесения покрытий в вакууме
Установка для нанесения покрытий в вакууме
Патент N 2296182, 27.03.2007
Способ обработки поверхности лопаток газотурбинного двигателя
Способ обработки поверхности лопаток газотурбинного двигателя
Патент N 2296181, 27.03.2007
Способ нанесения покрытий на изделие в вакуумной камере
Способ нанесения покрытий на изделие в вакуумной камере
патент N 2296181, 27.03.2007
Компания ЭСТО-Вакуум партнер РОСНАНО
1. Проектирование установок по ТЗ заказчика на базе выпускаемого оборудования.<br />
2. Проектирование оригинального оборудования по ТЗ заказчика.<br />
3. Совместный поиск технических решений под технологические задачи. Разработка технологического оборудования.<br />
4. Машиностроительное обеспечение проектов «Роснано»<br />
5. Организационное обеспечение продвижения проектов в «Роснано» с последующим машиностроительным и маркетинговым обеспечением.
Всё для производства гибридных интегральных схем - ГИС
Вакуумное оборудование для исследования и обработки арсенида галлия (GaAs).<br />
Наша компания выпускает ряд вакуумно-технологических установок для исследования и обработки арсенида галлия (GaAs).<br />
Для прецизионного травления арсенида галлия с высоким аспектным отношением установки плазмохимического травления в плазме высокой плотности (ТСР) – «Caroline PE 15»<br />
Для осаждения диэлектрических слоёв – аналогичная установка «Caroline PECVD 15».<br />
Для напыления большого спектра материалов различными методами – «Caroline  D 12 A1».
Вакуумные установки для напыления алюминиевой разводки силовых приборов.<br />
Наша фирма разработала и серийно выпускает вакуумные установки магнетронного напыления для напыления толстых (более 10 мкм.) слоев алюминия, сильноточные диоды, тиристоры и т.д.<br />
Для напыления титана, алюминия, никеля, серебра других металлов и сплавов с высокой производительностью и повторяемостью от процесса к процессу в одном вакуумном цикле 48 пластин &#216; 100 мм.  или 28 пластин &#216; 150 мм. (толщиной до 30мм.) мы выпускаем установку «Caroline D 12 B» .<br />
Для большей производительности установка «Caroline D 12 C», которая имеет в два раза большую загрузку 96 пластин диаметром 100 мм. <br />
Вакуумное оборудование для производства микроэлектронных механических систем.<br />
Наша фирма выпускает ряд вакуумных установок для производства микроэлектронных механических систем (МЭМС).<br />
Для прецизионного травления кремния с высоким аспектным отношением установки плазмохимического травления в плазме высокой плотности (ТСР) – «Caroline PE 15».<br />
Для осаждения диэлектриков – аналогичная установка «Caroline PECVD 15».<br />
Для напыления большой гаммы материалов различными методами – «Caroline  D 12 A1».<br />
Травление полупроводниковых лазеров.<br />
Травление эпитаксиальных структур полупроводниковых лазеров с применением ТСР генераторов плазмы высокой плотности наша компания занимается с момента основания.<br />
Для прецизионного травления структур арсенида галлия и нитрида галлия является установка «Caroline PE 15», её особенностью является низкий уровень радиационных нарушений при травлении полупроводниковых структур в следствии независимого управления плотностью плазмы (порядка 1012 электронов в см3 ) и энергией ионов (от 20 до 250 eV), присущих конструкции реактора данной установки.<br />
При травлении подобных структур энергия ионов не превышает 150 eV.
 
   Файлы
Распечатано 23.02.2012 с официального сайта компании "ЭСТО-Вакуум".
©2007 ООО «ЭСТО-Вакуум», 124460, г.Москва, Зеленоград, проезд 4806, д.4, стр.1
тел./факс: +7 (499) 710-6000, +7 (499) 710-6011, +7 (499) 729-7910, +7 (499) 729-8001, e-mail: info@esto-vacuum.ru
Перейти к нормальному виду