23 Февраля 2012 г.
О компании Новости Продукция Услуги Технологии Публикации Контакты
Версия для печати
Главная страница :: Новости :: События

События

28.05.2009
Международная выставка полупроводниковых материалов, оборудования и технологий SEMICON Russia 2009
Компания «ЭСТО-Вакуум» представит на стенде ЗАО «НПП «ЭСТО» шлюзовую установку плазмохимического и ионнохимического травления «Caroline PE15», так же на 5 стендах будет   Подробнее...
24.04.2009
Регулярное техническое обслуживание Вашего оборудования – залог Вашего спокойствия и хорошего настроения
17 марта 2009 года для повышения качества обслуживания своих заказчиков компания «ЭСТО-Вакуум» официально открыла отдел СЕРВИСА. Ранее эта функция была отдана на аутсорсинг.   Подробнее...
13.03.2009
4-я Международная специализированная выставка вакуумной техники, материалов и технологий - ВакуумТехЭкспо - 2009
ООО "ЭСТО-Вакуум" во второй раз примет самостоятельное участие в выставке “ВакуумТехЭкспо”, которая пройдет с 18 по 20 марта в КВЦ "Сокольники" в павильоне № 3.   Подробнее...
25.12.2008
ПОДАРОК К НОВОМУ ГОДУ
За две недели до наступления Нового Года в г. Донецк (Украина) на заводе "ТОПАЗ" введена в эксплуатацию установка магнетронного напыление "Caroline D12B".   Подробнее...
29.10.2008
V-я МЕЖДУНАРОДНАЯ ВЫСТАВКА НАНОИНДУСТРИИ «NTMEX-2008»
С 10 по 12 ноября 2008 года в Универсальном выставочном зале Здания Правительства Москвы (Новый Арбат, 36/9) пройдет V-я МЕЖДУНАРОДНАЯ ВЫСТАВКА НАНОИНДУСТРИИ «NTMEX-2008». ООО «ЭСТО-Вакуум» примет участие в составе коллективного стенда предприятий Зеленоградского административного округа.   Подробнее...
16.09.2008
Международная выставка «ChipEXPO-2008» в Экспоцентре.
С 1 по 3 октября 2008 года ЭСТО-Вакуум примет участие в очередной 6-й международной выставке «ChipEXPO-2008», которая будет проходить на территории выставочного комплекса «ЭКСПОЦЕНТР» на Красной Пресне.
  Подробнее...
15.09.2008
«ЭСТО-Вакуум» - победитель конкурса «Лидер московского рынка 2008».
С 27 по 29 августа 2008 года под патронажем Правительства Москвы совместно с администрациями областей Российской Федерации прошла XIV Московская промышленная выставка под девизом «Промышленность Москвы: вчера, сегодня, завтра». Мероприятие состоялось в павильоне №20 Всероссийского выставочного центра.   Подробнее...
17.06.2008
«ЭСТО-Вакуум» на Зеленоградском промышленном портале
Вы можете найти информацию о компании «ЭСТО-Вакуум» в справочнике электронного Портала промышленности и науки Зеленоградского АО (www.zelao-prom.ru) в разделах «Справочник предприятий» и «Предприятия».   Подробнее...
02.06.2008
9-я Международная научно-техническая конференция в Харькове
C 26 по 30 мая в г. Харькове, Украина, состоялась нанотехнологическая Ассамблея – 2008 на базе Национального научного центра «Харьковский физико-технический институт» (ННЦ «ХФТИ»).   Подробнее...
07.03.2008
Симпозиум в Суздали
Журнал «Электроника и электрооборудования транспорта» совместно с Академией электротехнических наук РФ проводит Международный симпозиум «Электроника и электрооборудования транспорта.   Подробнее...
26.02.2008
Новые результаты
В новой лаборатории, созданной на предприятии «ЭСТО-Вакуум», достигнуты новые результаты: впервые было осуществлено травление монокристаллического кремния в условиях неагрессивных газов.   Подробнее...
Компания ЭСТО-Вакуум партнер РОСНАНО
1. Проектирование установок по ТЗ заказчика на базе выпускаемого оборудования.<br />
2. Проектирование оригинального оборудования по ТЗ заказчика.<br />
3. Совместный поиск технических решений под технологические задачи. Разработка технологического оборудования.<br />
4. Машиностроительное обеспечение проектов «Роснано»<br />
5. Организационное обеспечение продвижения проектов в «Роснано» с последующим машиностроительным и маркетинговым обеспечением.
Всё для производства гибридных интегральных схем - ГИС
Вакуумное оборудование для исследования и обработки арсенида галлия (GaAs).<br />
Наша компания выпускает ряд вакуумно-технологических установок для исследования и обработки арсенида галлия (GaAs).<br />
Для прецизионного травления арсенида галлия с высоким аспектным отношением установки плазмохимического травления в плазме высокой плотности (ТСР) – «Caroline PE 15»<br />
Для осаждения диэлектрических слоёв – аналогичная установка «Caroline PECVD 15».<br />
Для напыления большого спектра материалов различными методами – «Caroline  D 12 A1».
Вакуумные установки для напыления алюминиевой разводки силовых приборов.<br />
Наша фирма разработала и серийно выпускает вакуумные установки магнетронного напыления для напыления толстых (более 10 мкм.) слоев алюминия, сильноточные диоды, тиристоры и т.д.<br />
Для напыления титана, алюминия, никеля, серебра других металлов и сплавов с высокой производительностью и повторяемостью от процесса к процессу в одном вакуумном цикле 48 пластин &#216; 100 мм.  или 28 пластин &#216; 150 мм. (толщиной до 30мм.) мы выпускаем установку «Caroline D 12 B» .<br />
Для большей производительности установка «Caroline D 12 C», которая имеет в два раза большую загрузку 96 пластин диаметром 100 мм. <br />
Вакуумное оборудование для производства микроэлектронных механических систем.<br />
Наша фирма выпускает ряд вакуумных установок для производства микроэлектронных механических систем (МЭМС).<br />
Для прецизионного травления кремния с высоким аспектным отношением установки плазмохимического травления в плазме высокой плотности (ТСР) – «Caroline PE 15».<br />
Для осаждения диэлектриков – аналогичная установка «Caroline PECVD 15».<br />
Для напыления большой гаммы материалов различными методами – «Caroline  D 12 A1».<br />
Травление полупроводниковых лазеров.<br />
Травление эпитаксиальных структур полупроводниковых лазеров с применением ТСР генераторов плазмы высокой плотности наша компания занимается с момента основания.<br />
Для прецизионного травления структур арсенида галлия и нитрида галлия является установка «Caroline PE 15», её особенностью является низкий уровень радиационных нарушений при травлении полупроводниковых структур в следствии независимого управления плотностью плазмы (порядка 1012 электронов в см3 ) и энергией ионов (от 20 до 250 eV), присущих конструкции реактора данной установки.<br />
При травлении подобных структур энергия ионов не превышает 150 eV.
 
   Файлы
Распечатано 23.02.2012 с официального сайта компании "ЭСТО-Вакуум".
©2007 ООО «ЭСТО-Вакуум», 124460, г.Москва, Зеленоград, проезд 4806, д.4, стр.1
тел./факс: +7 (499) 710-6000, +7 (499) 710-6011, +7 (499) 729-7910, +7 (499) 729-8001, e-mail: info@esto-vacuum.ru
Перейти к нормальному виду