23 Февраля 2012 г.
О компании Новости Продукция Услуги Технологии Публикации Контакты
Версия для печати
Главная страница :: Сервисы и инжиниринг

Технологии, реализуемые на оборудовании нашей компании

  1. ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИЕ ТЕХНОЛОГИИ реализуемые на установках «Caroline»
    • Скоростное травление монокристаллического кремния с хорошей анизотропией и селективностью.
    • Скоростное травление монокристаллического пьезокварца на большую глубину с хорошей анизотропией и селективностью. Достигнута глубина травления 250 мкм через маску толщиной 6 мкм.
    • Положительный результат при травлении ПЗС матриц без привнесения заряда.
    • Субмикронное скоростное травление диэлектриков (SiO2, Si3N4) со скоростями порядка 1 мкм/мин, включая пьезокварцевые подложки на глубину более 100 мкм.
    • Травление металлов, в том числе и чисто ионное травление золота, меди и других металлов, не образующих летучих соединений. Травление производилось через резистивные и металлические маски (скорость травления по золоту более 0,2 мкм/мин.)
    • Травление арсенида и нитрида галлия в производстве полупроводниковых лазеров и светодиодов, в том числе областей под омические контакты.
    • Травление полиимида с высокими скоростями, снятие резиста.
    • Обработка в плазме водорода и в атомарном водороде.
    • Осаждение диэлектриков с хорошим качеством и равномерностью (SiO2, Si3N4), из моносилана с кислородом и азотом при «комнатных» температурах подложки.
  2. НАПЫЛИТЕЛЬНЫЕ ТЕХНОЛОГИИ и ТЕХНОЛОГИИ ИОННОГО – ЛУЧЕВОГО ТРАВЛЕНИЯ реализуемые на установках «Caroline»
    • Высокоскоростное напыление металлов с гарантированной адгезией на подложки из:
      • Керамики
      • Металла
      • Арсенид галлия
      • Кремния и т.д. и т.п.
    • Реактивное напыление материалов, нитридов, оксидов, карбо-нитридов, сплавов с высокой адгезией, равномерностью и повторяемостью от процесса к процессу. Например: напыление нитрида кремния из кремниевой мишени из неё же напыление двуокиси кремния, нитрида алюминия, титана, циркония, хрома и пр.
    • Термическое напыление материалов из стандартных испарителей в автоматическом режиме со значительным увеличением ресурса испарителей.
    • Ионное напыление любых материалов с помощью автономного ионного источника.
    • Ионная очистка с помощью автономных ионных источников направленного действия.
    • Ионное азотирование перед нанесением упрочняющих покрытий.
    • Ионно-лучевое травление с помощью автономных ионных источников направленного действия.

Более подробно ознакомиться с представленными технологиями Вы можете в книге «Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления плёнок» из серии «Мир материалов и технологий», авторы Берлин Е.В., Двинин С.А., Сейдман Л.А. Изд. Техносфера, 2007 год., ISBN: 978-5-94836-134-5

«По вопросам приобретения книги обращайтесь по тел. (495) 530-60-00, (499) 729-79-10, 729-80-01, Отдел маркетинга»

Компания ЭСТО-Вакуум партнер РОСНАНО
1. Проектирование установок по ТЗ заказчика на базе выпускаемого оборудования.<br />
2. Проектирование оригинального оборудования по ТЗ заказчика.<br />
3. Совместный поиск технических решений под технологические задачи. Разработка технологического оборудования.<br />
4. Машиностроительное обеспечение проектов «Роснано»<br />
5. Организационное обеспечение продвижения проектов в «Роснано» с последующим машиностроительным и маркетинговым обеспечением.
Всё для производства гибридных интегральных схем - ГИС
Вакуумное оборудование для исследования и обработки арсенида галлия (GaAs).<br />
Наша компания выпускает ряд вакуумно-технологических установок для исследования и обработки арсенида галлия (GaAs).<br />
Для прецизионного травления арсенида галлия с высоким аспектным отношением установки плазмохимического травления в плазме высокой плотности (ТСР) – «Caroline PE 15»<br />
Для осаждения диэлектрических слоёв – аналогичная установка «Caroline PECVD 15».<br />
Для напыления большого спектра материалов различными методами – «Caroline  D 12 A1».
Вакуумные установки для напыления алюминиевой разводки силовых приборов.<br />
Наша фирма разработала и серийно выпускает вакуумные установки магнетронного напыления для напыления толстых (более 10 мкм.) слоев алюминия, сильноточные диоды, тиристоры и т.д.<br />
Для напыления титана, алюминия, никеля, серебра других металлов и сплавов с высокой производительностью и повторяемостью от процесса к процессу в одном вакуумном цикле 48 пластин &#216; 100 мм.  или 28 пластин &#216; 150 мм. (толщиной до 30мм.) мы выпускаем установку «Caroline D 12 B» .<br />
Для большей производительности установка «Caroline D 12 C», которая имеет в два раза большую загрузку 96 пластин диаметром 100 мм. <br />
Вакуумное оборудование для производства микроэлектронных механических систем.<br />
Наша фирма выпускает ряд вакуумных установок для производства микроэлектронных механических систем (МЭМС).<br />
Для прецизионного травления кремния с высоким аспектным отношением установки плазмохимического травления в плазме высокой плотности (ТСР) – «Caroline PE 15».<br />
Для осаждения диэлектриков – аналогичная установка «Caroline PECVD 15».<br />
Для напыления большой гаммы материалов различными методами – «Caroline  D 12 A1».<br />
Травление полупроводниковых лазеров.<br />
Травление эпитаксиальных структур полупроводниковых лазеров с применением ТСР генераторов плазмы высокой плотности наша компания занимается с момента основания.<br />
Для прецизионного травления структур арсенида галлия и нитрида галлия является установка «Caroline PE 15», её особенностью является низкий уровень радиационных нарушений при травлении полупроводниковых структур в следствии независимого управления плотностью плазмы (порядка 1012 электронов в см3 ) и энергией ионов (от 20 до 250 eV), присущих конструкции реактора данной установки.<br />
При травлении подобных структур энергия ионов не превышает 150 eV.
 
   Файлы
Распечатано 23.02.2012 с официального сайта компании "ЭСТО-Вакуум".
©2007 ООО «ЭСТО-Вакуум», 124460, г.Москва, Зеленоград, проезд 4806, д.4, стр.1
тел./факс: +7 (499) 710-6000, +7 (499) 710-6011, +7 (499) 729-7910, +7 (499) 729-8001, e-mail: info@esto-vacuum.ru
Перейти к нормальному виду