НАЗНАЧЕНИЕ:

Установка «Caroline D12A» предназначена для магнетронного напыления на керамические, кремниевые и другие плоские подложки размером до Ø100 мм.

Установка комплектуется тремя или четырьмя магнетронами (например РС, хром, медь, никель), либо тремя магнетронами и источником термического испарения и т.д.; резистивных пленок из материалов типа РС–3710; РС–5406; РС–1004 и т.д.;пленок титана, нитрида или окиси титана; нитрида тантала; алюминия толщиной до 15 мкм., меди толщиной до 15 мкм.; двуокиси кремния и нитрида кремния из кремниевой мишени.

УСТАНОВКА ОБЕСПЕЧИВАЕТ:

•  напыление резистивных пленок из материалов типа РС–3710; РС–5406; РС–1004 и т.д.;
• пленок титана, нитрида или окиси титана;
• нитрида тантала;
  
• алюминия толщиной до 15 мкм., меди толщиной до 15 мкм.;
• двуокиси кремния и нитрида кремния из кремниевой мишени

• очистку поверхности изделий перед напылением с целью улучшения адгезии напыляемых слоев с помощью ионного источника постоянного тока;
  • нагрев изделий до заданной температуры, контроль и поддержание температуры в процессе напыления слоев;
  • стабилизацию заданного расхода технологических газов по трем каналам и контроль расхода газа по каждому каналу;
  • отпыливание мишени любого из одного – четырех магнетронов на управляемую заслонку;
  • горизонтальное расположение мишеней на магнетронах и изделий на вращающемся диске;
  • автоматическое выполнение цикла откачки рабочей камеры от атмосферы до стартового вакуума;
  • автоматическое окончание цикла очистки изделий по заданному времени;
  • контроль и автоматическое окончание напыления резистивных и металлических пленок по заданному времени или по заданному сопротивлению свидетеля, а также по кварцевому измерителю толщины и т.д.;
  • размещение изде­лий на легко снимаемой смен­ной карусели с це­лью сок­ра­щения времени загрузки и выгрузки;
  • возможно разме­щение не­стан­дартных узлов на­не­сения или тра­в­ления пленок, дополнитель­ных нагревателей, из­ме­ри­телей и т.д., если позволяют габариты ка­меры.

  УСЛОВИЯ ЭКСПЛУАТАЦИИ:

  • Установка предназначена для работы при температуре +15°С÷30 °С относительной влажности 65±15%, атмосферном давлении 9,9×10⁴ Па (750±30 мм.рт.ст.).
  • Питание установки осуществляется от трехфазной четырехпроводной сети с нулевым проводом переменного тока напряжением 380 В±10%, частотой 50 Гц.
  • Максимальный потребляемый установкой ток по фазам не более 50 А.
  • Установка обеспечивает работу при подаче в нее:холодной воды с температурой 15°С±5°С под давлением (45 кгс/см²) с расходом 0,6 м³/час;кислорода газообразного под давлением 1÷1,5 кг/см², аргона газообразного марки «особо чистый» под давлением 1÷1,5 кг/см², азота газообразного марки «особо чистый» под давлением 1÷1,5 кг/см²
  Также необходимо подвести к установке линию слива охлаждающей воды диаметром не менее 20 мм.  Установки поставляются с автоматизированной и тестовой технологической программами либо отработка технологии может быть произведена на лабораторной базе Исполнителя под технологию Заазчика с последующим переносом ее на заказанную установку.

  На установке реализованы следующие технологии:

  напыление РС-3710 с поверхностным сопротивлением 20÷1000 Ом/□ и более;напыление нитрида тантала с поверхностным сопротивлением 20÷150 Ом/□ и ТКС менее 5×10^-5; напыление толстых (до 15 мкм.) слоев металла; напыление последовательных слоев РС и металла в одном цикле; напыление двуокиси кремния и нитрида кремния на керамические и кремниевые пластины диаметром до 100 мм.  

  Технические ХАРАКТЕРИСТИКИ

     

  Количество подложек, обрабатываемых за 1 цикл (шт.)	12шт. Ø100 мм. 24 шт. 60х48
  Размеры обрабатываемых подложек (мм.)	до Ø100 мм.
  Установка полностью автоматизирована
  Предусмотрен визуальный контроль в позициях термических испарителей
  Автономное управление заслонками на всех позициях напыления
  Автономная замкнутая система водоснабжения с охлаждением от оборотной воды предприятия
  Стартовое давление в рабочей камере, Па	1×10-3
  Расход подаваемых в камеру рабочих газов по одному каналу (л/час)	0÷9
  Количество подаваемых (неагрессивных) газов до (шт.)	3
  Количество устройств очистки изделий (шт.)	1
  Возможна установка термических испарителей	до 2
  Допустима работа источника плазмы совместно с магнетроном на смеси газов
  Количество магнетронов в установке (шт.)	1÷4
  Тип магнетронов для напыления пленок	Импульсный среднечастотный
  Рабочий ток магнетронов, регулируемый (А)	0,5÷8
  Рабочее напряжение магнетронов (В)	300÷650
  Материал и размер мишеней: металлы, сплавы, РС, кремний (могут использоваться составные мишени не прямого охлаждения), мм.	Ø 100×4÷12
  Допустимое давление в камере при работе магнетронов, Па	0,07÷0,3
  Предусмотрен вариант напыления на охлаждаемую подложку с подачей смещения 100 КГц
  Диапазон контроля сопротивления свидетеля (кОм)	0,2÷20
  Погрешность измерения сопротивления (%)	±1
  Предусмотрен вариант установки кварцевого измерителя толщины (опция)
  Рекомендуемая температура нагрева подложек, оС (макcимальная 300 оС)	50÷250
  Нестабильность температуры подложек (%)	±5
  Предельное остаточное давление в рабочей камере, (Па)	2х10-4
  Время подготовки установки к работе с учетом “разгона” крионасоса не более (мин.)	110
  Габаритные размеры агрегата вакуумного с открытой крышкой ширина×глубина×высота, мм	1318×850×2000
  Масса со стойкой питания и управления, кг.	до 1850