20 Мая 2012 г.
О компании Новости Продукция Услуги Технологии Публикации Контакты
Версия для печати
Главная страница :: Продукция :: Установки :: Caroline PE12

Caroline PE12

Автоматизированная установка для плазмохимического, ионно-химического и ионного травления тонких плёнок в вакууме

Caroline PE12


НАЗНАЧЕНИЕ:

Вакуумно-технологическая установка «Caroline PE12» предназначена  для   плазмохимического, ионно-химического и ионного травления тонких плёнок в вакууме на любых плоских (толщина не более 30 мм.) подложках размером до Ø 250 мм.Эта установки полностью автоматизированного управления с поштучной обработкой пластин Ø до 250 мм. снабжена генератором плазмы высокой плотности (патент РФ № 2 171 555) со своим ВЧ-генератором возбуждения плазмы (частотой 13,56 МГц) и специальным столом с подачей от независимого генератора ВЧ-смещения для вытягивания и ускорения ионов из плазмы.

Для улучшения теплоотвода от подложки предусмотрен так называемый «гелиевый теплоотвод», который подразумевает подачу гелия между подложкой и поверхностью стола, что позволяет поддерживать небольшой перепад температур между поверхностью электрода и подложки.

Установка обеспечивает:

·     стабилизацию  заданного  расхода  технологических  газов  по  трем  каналам  и  контроль  расхода  газа  по  каждому  каналу;·     автоматическое выполнение программ «от загрузки до разгрузки»; ·     специальными согласующими устройствами;·     вакуумная камера установки снабжена прямоугольной дверью для удобства обслуживания. ·     по желанию Заказчика возможно размещение других узлов травления пленок, дополнительных нагревателей, измерителей и т.д., если позволяют габариты камеры (опция).

 

УСЛОВИЯ ЭКСПЛУАТАЦИИ:

Установка  предназначена  для  работы  при  температуре 15÷30˚С  относительно    влажности    65±15%,    атмосферном    давлении 9,9х104 Па (750 ±30 мм.рт.ст.).         Питание  установки  осуществляется  от  трехфазной четырехпроводной  сети  с  нулевым  проводом  переменного  тока  напряжением  380 В ± 10%,  частотой  50 Гц.  Максимальный  потребляемый  установкой  ток  по  фазам не  более  50А.


Установка обеспечивает работу при подаче в нее:

·     холодной воды с температурой 5÷20˚С под давлением (4÷5 кгс/см.2) с расходом 0,6 м3/час, также необходимо подвести к установке линию слива охлаждающей  воды  диаметром  не  менее  20 мм.;·     сжатого воздуха под  давлением 4÷6 кгс/см2.;·     кислорода  газообразного  под  давлением  1÷1,5 кг/см.2,  аргона  газообразного  марки  «особо  чистый»  под  давлением  1÷1,5 кг/см.2,  азота  газообразного  марки  «особо  чистый»  под  давлением  1÷1,5 кг/см.2.

 

На установке реализованы следующие технологии:

·     травление меди, золота, серебра, платины и многих других материалов ионным распылением; ·     травление кремнийсодержащих слоев (оксиды, нитриды, поликремний, КНС, монокристаллический кремний), кварцевых подложек, пьезокварца со скоростями до 1 мкм/мин. с хорошим качеством поверхности на глубину более 100 мкм.;·     травление арсенида галлия, нитрида галлия, и других сложных полупроводников;·     травление любых полимерных слоев;                         ·     превосходная очистка керамики от любых загрязнений;·     для электровакуумных приборов обработка в водородной плазме заменяет высокотемпературный водородный отжиг. Установка поставляется с автоматизированной управляющей и тестовой технологической программами либо на лабораторной базе Исполнителя под технологию Заказчика может быть произведена отработка технологии с последующим переносом её на заказанную установку (опция).
 

Количество подложек, обрабатываемых за 1 цикл (шт.)

1

Размеры обрабатываемых подложек (мм)

до Ø 250

Автономная замкнутая система водоснабжения с температурой выше точки росы при любых режимах эксплуатации и охлаждением от оборотной воды предприятия 
Стартовое давление в рабочей камере, Па1х10-3
Расход подаваемых в камеру рабочих газов по одному каналу  (л/час)0÷9
ВЧ мощность, подаваемая на антенну генератора плазмы100÷900 Вт,13,56 МГц
Частота напряжения смещения100 кГц, или 13,56 МГц
Мощность, подаваемая на столик, Втдо 900
Равномерность на Ø 150 мм. при травлении SiO2 , %±1
Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» насоса не более, мин.60
Габаритные размеры агрегата технологического (ширина × глубина × высота) с открытой крышкой, мм. 1322х850х1980
Масса со стойкой питания и управления, кг. до 1400 кг.

Получить каталог по почте

Название предприятия *


Почтовый адрес *


Контактный телефон *


Контактное лицо / Кому *


Должность
Сведения о предприятии:
профиль деятельности, какое вакуумное оборудование находится в эксплуатации, есть ли планы на приобретение нового оборудования.


Код подтверждения:

 
   Файлы
Распечатано 20.05.2012 с официального сайта компании "ЭСТО-Вакуум".
©2007 ООО «ЭСТО-Вакуум», 124460, г.Москва, Зеленоград, проезд 4806, д.4, стр.1
тел./факс: +7 (499) 710-6000, +7 (499) 710-6011, +7 (499) 729-7910, +7 (499) 729-8001, e-mail: info@esto-vacuum.ru
Перейти к нормальному виду