НАЗНАЧЕНИЕВакуумно-технологические автоматизированная установка Caroline D12B2 предназначена для двустороннего магнетронного напыления на керамические, кремниевые и любые плоские (толщина не более 30 мм.) подложки размером до Ø150 мм. (максимальная плоскость обрабатываемых деталей 150×350 мм.) Отличием установки Caroline D12B3 является сложная дверь (с двумя нагревателями и ионным источником), которая дает возможность установки 8-ми магнетронов, тогда как в установку Caroline D12B2 может быть установлено максимум 7 магнетронов. Установка комплектуется магнетронами для распыления любых материалов, например, резистивные сплавы Cu, Cr, Ni, Al и т.п. Установка обеспечивает:очистку поверхности изделий перед напылением с целью улучшения адгезии напыляемых слоев с помощью ионного источника постоянного тока (при необходимости два ионных источника изнутри и снаружи барабана); нагрев изделий до заданной температуры, контроль и поддержание температуры в процессе напыления слоев; стабилизацию заданного расхода технологических газов по трем каналам и контроль расхода газа по каждому каналу; отпыливание мишени любого из одного - восьми магнетронов на управляемую заслонку; вертикальное расположение мишеней на магнетронах и изделий на вращающемся барабане; автоматическое выполнение цикла откачки рабочей камеры от атмосферы до стартового вакуума; автоматическое окончание цикла очистки изделий по заданному времени; контроль и автоматическое окончание напыления резистивных и металлических пленок по заданному времени или по заданному сопротивлению свидетеля;
размещение изделий на легко снимаемых с барабана носителях с целью сокращения времени загрузки и выгрузки.
Вакуумная камера установки снабжена прямоугольной дверью большого размера для удобства загрузки-выгрузки носителей. Для обслуживания камеры она поднимается над плитой-основанием с помощью гидроподъемника. Установка в предельном варианте комплектации имеет два комплекта блоков питания магнетрона и ионного источника и блок подачи смещения на барабан-подложкодержатель. Возможно размещение нестандартных узлов нанесения или травления пленок, дополнительных нагревателей, измерителей и т.д., если позволяют габариты камеры. Возможно применение планетарного механизма вращения цилиндрических подложек (ось вращения вертикальная) с диаметром изделий до 100 мм. УСЛОВИЯ ЭКСПЛУАТАЦИИУстановка предназначена для работы при температуре +15°С÷30 °С относительно влажности 65 ±15%, атмосферном давлении 9,9×104 Па (750 ±30мм.рт.ст.). Питание установки осуществляется от трехфазной четырехпроводной сети с нулевым проводом переменного тока напряжением 380 В ±10%, частотой 50 Гц. Максимальный потребляемый установкой ток по фазам не более 50 А. Установка обеспечивает работу при подаче в нее: холодной воды с температурой 5°С÷20°С под давлением (4÷5 кгс/см2) с расходом 0,6 м3/час; кислорода газообразного под давлением 1÷1,5 кг/см2, аргона газообразного марки «особо чистый» под давлением 1÷1,5 кг/см2, азота газообразного марки «особо чистый» под давлением 1÷1,5 кг/см2.
Необходимо подвести к установке линию слива охлаждающей воды диаметром не менее 20 мм. Реализована автономная замкнутая система водоснабжения с температурой выше точки росы при любых режимах эксплуатации и охлаждением от оборотной воды предприятия Установка поставляется с автоматизированной управляющей и тестовой технологической программами либо на лабораторной базе Исполнителя под технологию Заказчика может быть произведена отработка технологии с последующим переносом её на заказанную установку . На установке реализованы следующие технологии:напыление РС-3710 с поверхностным сопротивлением 20÷1000 Ом/□ и более; напыление нитрида тантала с поверхностным сопротивлением 20÷150 Ом/□ и ТКС менее 5×10-5; напыление толстых (до 15 мкм.и более) слоев металла; напыление последовательных слоев РС и металла в одном цикле; напыление двуокиси и нитрида кремния из кремниевой мишени.
Установка поставляется с автоматизированной управляющей и тестовой технологической программами либо на лабораторной базе Исполнителя под технолгию Заказчика может быть произведена отработка технологии с последующим переносом ее на заказанную установку.
Количество подложек, обрабатываемых за 1 цикл (шт.) - при двусторонней загрузке
- при односторонней загрузке
| 70 шт.60×48 мм. 48 шт. Ø100 мм., 28 шт. Ø150 мм., 111 шт. 60х48 мм. | Размеры обрабатываемых подложек, мм. | до Ø150 мм. | Стартовое давление в рабочей камере, Па | 1×10-3 | Управление заслонками на всех позициях напыления | | Количество подаваемых (неагрессивных) газов до, шт. | 3 | Количество устройств ионной очистки изделий, шт. | до 2 | Количество магнетронов в установке, шт. | до 7 (для В3 - до 8) | Тип магнетронов для напыления пленок | Импульсный
среднечастотный | Автономное управление заслонками на позициях напыления (одновременно могут быть открыты пары магнетронов в позициях 1 и 3 либо в позициях 2 и 4) | | Рабочий ток магнетронов регулируемый, А | 0,5÷10 (30 - опция) | Рабочее напряжение магнетронов (В) | 300÷650 | Материал и размер мишеней: металлы, сплавы, РС, кремний (могут использоваться составные мишени не прямого охлаждения) (мм) | 440×100×6×15 | Допустимое давление в камере при работе магнетронов (Па) | 0,07÷0,3 | Безмасляная откачка | | Мощность генератора смещения | 1 КВА | Диапазон контроля сопротивления свидетеля, кОм | 0,2÷20 | Погрешность измерения сопротивления, % | ±1 | Предельное остаточное давление в рабочей камере, Па | 2×10-4 | Время подготовки установки к работе с учетом “разгона” крионасоса не более, мин. | 110 | Габаритные размеры агрегата технологического (ширинахглубинахвысота), мм. | 1450×850×2980 | Масса со стойкой питания и управления, кг. | до 2300 |
|
:: Продукция :: Установки :: Caroline D12B3
